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Lambda显微高光谱成像系统
- 产品描述
- 参数介绍
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产品性能
仪器型号
Lambda-VN
Lambda-VNS
Lambda-Nir
光谱范围
420~1000nm
420~1000nm
1150~1650±5nm
光谱分辨率
10nm
10nm
20nm
光谱通道数
>100
>100
32/64
标配镜头
焦距（mm）
25（其它焦距可选*1）
25（其它焦距可选*1）
35（其它焦距可选*2）
工作距离（mm）
150-∞
150-∞
300-∞
视场角
19°
23°
15.6°
探测器
2048×2048 CMOS
2048×2048 CMOS
640×512 InGaAs FPA
像素数（空间维×扫描维）
1600×1200（1X）
800×600（2X）1600×1200（1X）
800×600（2X）640×512
像素尺寸
5.5×5.5μm
6.5×6.5μm
15×15μm
数字输出
10bit
12bit
14bit
帧数
28μs-1s
10μs-10s
10μs-1s
内置电脑接口
USB3.0+HDMI
USB3.0+HDMI
USB3.0+HDMI
镜头接口
C-Mount
C-Mount
C-Mount
系统电源
DC 16.8V
DC 16.8V
DC 16.8V
内置微型处理器
I7处理器、16G运存、256G SSD
I7处理器、16G运存、256G SSD
I7处理器、16G运存、256G SSD
内置电池
65Wh
65Wh
65Wh
系统功耗
45W
60W
60W
注释：
*¹：16mm，35mm，50mm，其它可咨询
*²：9mm，15mm，22mm，56mm，其它可咨询
相机功能
镜头集成：可与标准C接口的成像镜头或显微镜直接集成，实现光谱影像（Mapping）的快速采集；
自动采集：支持自动曝光、自动扫描速度匹配、自动采集并保存数据；
实时校准与模型运算：内置水体、植被等超过25个指数模型，支持数据实时校准及模型运算；
辅助监控：配备辅助取景摄像头，实时监控拍摄区域；
内置电源：内置电池，支持独立工作；
数据校正功能：支持辐射度校正、反射率校正、区域校正、镜头校准、均匀性校准；
镜头兼容性：镜头可灵活更换；
软件兼容性：数据格式完美兼容Envi、SpecSight等专业分析软件；
光谱匹配搜索：支持目标光谱实时匹配搜索功能；
无线遥控：内置WiFi，支持Android智能手机、iPad、iPhone无线遥控操作；
远程传输：千兆以太网接口，支持远距离图像传输与遥控操作。
应用案例
生物医学领域：
可应用于肿瘤细胞的判别、出血性息肉的判别、肉白班的识别、淋巴细胞白血病的筛查、细胞质和细胞核的 区分、细胞数的计算等。
基于显微高光谱的喉部黏膜出血性息肉和肉白斑区域快速识别（红色区域）
20倍目镜下显微高光谱判别肿瘤位置及异常细胞扩散位置
基于显微高光谱计算细胞核、细胞质和其他物质的快速区分 根据细胞质心位置计算细胞数目（一共402个）
暗场散射纳米颗粒检测
暗场显微是在暗场照明下实现的一种特殊显微手法，可以避免与被观测物体无关的光线进入物镜，在暗背景中呈 现清晰的物体轮廓。应用该方法可见到小至4~200nm的微粒子，分辨率可比普通明场照明显微法高50倍。搭载高光 谱成像系统的显微镜可判别其微粒子种类等。
图中是在单次气管内滴注低（18 pg）和高（162 pg）纳米二氧化钛后，对来自小鼠的肺组织进行VNIR高光谱成 像，以确定这些组织中的颗粒滞留位置。
纳米二氧化钛暴露组织的暗场图像（上图）
来自纳米二氧化钛暴露组织的暗场高光谱图像识别出这些纳米颗粒，他们表现为白色包裹体的聚集体（中图）
这些组织中纳米二氧化钛在高光谱图显示为红点或聚集体（下图）
OLED显示屏发光测试
显微高光谱成像系统通过不同倍数的目镜，可以获取更高空间分辨率的OLED显示屏的发光图像，通过高光谱图像数 据”图谱合一”的特点检测OLED显示屏发光的均匀性及稳定性。
20X、50X和100X下检测OLED显示屏的发光情况
晶片材料、缺陷检测
无接触、无损伤、快速准确的微区测量技术，可在室温下操作，也可以在生产中进行在线测量，可得到整个 晶片的PL Mapping,从而可得到衬底或外延层的组分配比、缺陷以及材料其他属性的微区均匀性的重要信息。基于显微高光谱成像技术可在细微尺度上鉴别晶片的材质以及样品发光中心浓度的变化等。
植入硼、铝以及无植入特殊材质下晶片在显微镜高光谱成像系统下的图像及光谱
钙钛矿晶体中的应用
显微高光谱成像系统在钙钛矿晶体材料不均一性问 题的检测与传统检测技术如共聚焦显微成像等相比，具有以下优点：单次整视场成像；在PL成像实验中该系统的激发光源在视野中的强度是均匀分布的；可获得光谱强度的定量值。
钙钛矿PL数据。图（a）和（b）显示了分别在625nm和750nm处拍摄的两张不同的单色PL图像
图（c）为图1中不同位置的光谱图
图（d）为指定区域PL图谱频移成像图
LED/OLED光源显示屏上的应用
显微高光谱技术逐渐在半导体材料和器件的测试领域得到应用。显微高光谱成像技术目前主要应用于半导体 材料发光均匀性研究，对半导体材料的缺陷进行检测分析，对LED芯片表面温度空间分布等。
显微高光谱反演不同LED光源面板的温度
应用领域
1、生物医学领域
2、暗场散射纳米颗粒检测
3、OLED显示屏发光测试
4、晶片材料
5、缺陷检测
6、钙钛矿晶体中的应用
7、LED/OLED光源显示屏上的应用
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长光辰谱是一家集光学薄膜研制、新型光谱仪器研发、光谱图像处理与应用于一体的高新技术企业。
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